
韩研究人员开发高速且超低功耗黑磷隧道场效应晶体管
韩国科学技术院(KAIST)官网报道,该校研究人员开发出一种厚度可控的黑磷隧道场效应晶体管(TFET),相比传统互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管开关功耗降低到十分之一,待机功耗降低到千分之一,可作为超低功耗开关的候选者,为延续摩尔定律铺平了道路。
韩国科学技术院(KAIST)官网报道,该校研究人员开发出一种厚度可控的黑磷隧道场效应晶体管(TFET),相比传统互补金属氧化物半导体(CMOS)晶体管开关功耗降低到十分之一,待机功耗降低到千分之一,可作为超低功耗开关的候选者,为延续摩尔定律铺平了道路。