上海光机所极紫外光刻光源掩模优化技术取得进展
近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室在极紫外光刻的计算光刻技术研究方面取得进展。研究人员针对极紫外光刻，提出了一种基于厚掩模模型和社会学习粒子群算法（social learning particle swarm optimization, SL-PSO）的光源掩模优化技术（Source and mask optimization, SMO）。
