EV GROUP全新多功能微米及纳米压印解决方案

微机电系统（MEMS）、纳米科技与半导体市场的晶圆接合暨微影技术设备领导供应商EV Group（EVG），今天宣布推出EVG ^® 7300自动化SmartNIL ^®纳米压印与晶圆级光学系统。EVG7300是EVG最先进的解决方案，可在单一平台上结合如纳米压印微影技术（NIL）、透镜压铸与透镜堆叠（UV接合）等多重基于UV架构的制程。这套随时可供业界使用的多功能系统，旨在满足涉及各种微型和纳米图案以及功能层堆叠等崭新应用的先进研发与生产需求，包括晶圆级光学（WLO）、光学感测器与投影机、汽车照明、增强现实头戴式装置使用的波导管、生物医疗设备、超构透镜（meta-lens）与超颖表面（meta-surface），以及光电学。EVG7300支持大至300毫米的晶圆尺寸，并具备高精度对准功能、先进制程控制与高制程产出量，满足各种自由形式及高精度纳米和微型光学元件与设备的量产需求。

EV Group最新推出的纳米压印解决方案系列产品EVG7300，将SmartNIL全域压印技术及透镜压铸和透镜堆叠结合成一套顶尖的系统，具备市场上最精确的对准与制程参数控制，为客户的产业研究与生产需求提供前所未有的弹性。

EVG7300既可作为独立工具，也可当作一个模组整合在EVG的HERCULES ®NIL之中，作为UV-纳米压印微影（UV-NIL）的全整合解决方案，其中还可增加如清洗、光阻涂层，以及烘烤或后处理等额外的预处理步骤，以最佳化特定制程的需求。这套系统通过结合对准阶段的改善、高精度光学元件、多点间隙控制、非接触式间隙测量与多点力控制，具领先业界最高可达300纳米的对准精度。EVG7300是具高度弹性的平台，提供三种不同的制程模式，包含透镜压铸、透镜堆叠与SmartNIL纳米压印，并支持150毫米到300毫米晶圆的基板尺寸。模板与晶圆的快速装载、快速对准的光学元件、高功率固化以及极小的工具占用空间，使这套高效平台能够满足业界对崭新WLO产品的制造需求。获取更多前沿科技 研究进展 访问：https://byteclicks.com