美国研究人员开发原子级超晶格薄材料

美国宾夕法尼亚州立大学、AIXTRON、加州大学洛杉矶分校、空军研究实验室和布鲁克海文国家实验室的研究人员，合作开发了一种制造高光发射原子级薄超晶格或半导体薄膜的新方法。

研究人员制作了一个由钨和硫组成的五个原子厚的超晶格，可直接在晶片上生长，然后再溶解基板，使得晶格可以转移到任何所需的材料上。这种超晶格设计不仅非常薄、重量轻且具有成本效益，而且还可以发光，并且可以通过操纵超晶格的形状，从而间接控制其发出的光。获取更多前沿科技 研究进展 访问：https://byteclicks.com

这项新技术可应用于机器人、航空航天、激光雷达系统、面部识别等领域。

相关研究成果发表在《自然·纳米技术》（Nature Nanotechnology）期刊上。