新获奖的EUV光刻技术使芯片比人的头发薄5000倍

新获奖的EUV光刻技术使芯片比人的头发薄5000倍

经过20多年的深入联合开发工作,欧洲的公司和研究机构终于推出了一种革命性的新制造技术,用于大规模生产功能强大的微芯片。被业内人士称为EUV光刻技术。新技术还可以实现自动驾驶、5G、人工智能等未来创新应用。

EUV代表极紫外光,它使制造比以往任何时候都更强大,更节能和更实惠的微芯片成为可能。 获取更多前沿科技信息访问:https://byteclicks.com

与迄今为止领先的光学光刻工艺相比,新的制造工艺只需13.5纳米就可以工作,而迄今为止领先的光学光刻工艺使用的光源波长为193纳米。令人印象深刻的是,EUV已经推出了比人的头发还薄5000倍的芯片结构。

但这并不是什么超级新技术。自2019年秋季以来,使用这种先进技术的智能手机已经上市。但它们是如何开发出来的呢?

漫长的开发过程

ASML和TRUMPF公司为此项目设计了一种独特的光源。它由ASML开发的等离子体源组成,其中每秒将50,000个锡液滴喷入真空室,然后被TRUMPF开发的高功率CO2激光器连续两次脉冲撞击。

作为一项突破性创新,EUV技术将继续推动商业和社会数字化的重大进步。

如果你想了解更多关于EUV光刻技术是如何产生的,请访问ZEISS的网站。这项工作还获得了蔡司,通快和其合作伙伴Fraunhofer的2020年德国Zukunftspreis大奖。

在EUV光刻技术方面,他们开发出了一项技术,将在全球范围内提供数字化的推动力,并由此也为进一步的创新奠定了基础。

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