
新型空穴型透明导电薄膜问世
中国科学院合肥物质科学研究院固体物理研究所功能材料物理与器件研究部和本院等离子所等单位科研人员合作,在空穴型近红外透明导电薄膜研究方面取得新进展:他们设计并制备了新型空穴型铜铁矿薄膜,并通过参数优化让新型薄膜获得了较高的近红外波段透过率和较低的室温方块电阻。相关研究结果日前发表在《先进光学材料》杂志上。
中国科学院合肥物质科学研究院固体物理研究所功能材料物理与器件研究部和本院等离子所等单位科研人员合作,在空穴型近红外透明导电薄膜研究方面取得新进展:他们设计并制备了新型空穴型铜铁矿薄膜,并通过参数优化让新型薄膜获得了较高的近红外波段透过率和较低的室温方块电阻。相关研究结果日前发表在《先进光学材料》杂志上。
透明导电薄膜(TCF)作为一种重要的光电材料,在触控屏、平板显示器、光伏电池、有机发光二极管等电子和光电子器件领域有着广泛应用。目前,氧化铟锡(ITO)是工业中应用最为广泛的透明导电薄膜材料。常用的ITO制备工艺涉及高温高真空的耗能且工艺复杂。中科院研究人员发展出一种新的连续直接制备大面积自支撑的透明导电碳纳米管(CNT)薄膜的方法——吹胀气溶胶法(BACVD)