三星SDI开始开发半导体光刻胶
三星SDI（Samsung SDI）开始开发半导体光刻胶（photoresist）。目标将几乎被日本垄断的半导体光刻胶的生产内部化，同时将电子材料部门的产品组合多样化。
三星SDI的研究中心最近引进了用于开发光刻胶的8吋晶圆微影和涂布及显影设备。
由于，日本政府在2019年对韩国实行材料出口管制，迫使韩国寻求半导体材料的本地化布局。三星SDI开发半导体光刻胶的决定将对韩国半导体材料的本地化产生重大影响。日本企业在光刻胶产业有着压倒性的力量，光刻胶是半导体制造的重要材料之一。
日本政府当时决定管制EUV光刻胶对韩国的出口。然而，日本公司也垄断了ArF和KrF光刻胶的制造。像是富士（Fuji）主宰着用于制造CMOS影像传感器的KrF光刻胶市场。这些材料比EUV光刻胶更常使用。
日本实行出口限制以来，日本的东应化（TOK）和美国的杜邦等公司已经采取行动，在出口市场生产光刻胶，重组供应链。在韩国，生产光刻胶的公司，包括Dongjin Semichem和SK Materials Performance ，也一直为本地化努力。然而，许多专家指出，韩国需要投入更多的资金和人力资源，朝成为核心半导体材料的中心努力。获取更多前沿科技 研究进展 访问：https://byteclicks.com
业界分析人士表示，三星SDI大规模生产光刻胶的目标，有助于大幅扩展韩国的半导体材料研究基础设施。
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三星SDI没有提及光刻胶开发计算的时间表。只提到，若能成功大规模生产，会向三星电子以及其他半导体公司和使用光刻胶的公司供货。
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