
上海微系统所在3D电子束光刻技术研究中取得进展
电子束光刻精度极高,通常是二维微纳加工获得最小尺寸的标准工具,如何把电子束光刻的能力拓展到真三维微纳加工是研究的努力方向。上海微系统所在3D电子束光刻技术研究中取得进展
电子束光刻精度极高,通常是二维微纳加工获得最小尺寸的标准工具,如何把电子束光刻的能力拓展到真三维微纳加工是研究的努力方向。上海微系统所在3D电子束光刻技术研究中取得进展