
碳化硅,第三代半导体时代的中国机会
今年发布的“‘十四五’规划和2035年远景目标纲要”提出,我国将加速推动以碳化硅、氮化镓为代表的第三代半导体新材料新技术产业化进程,催生一批高速成长的新材料企业。
今年发布的“‘十四五’规划和2035年远景目标纲要”提出,我国将加速推动以碳化硅、氮化镓为代表的第三代半导体新材料新技术产业化进程,催生一批高速成长的新材料企业。
由于,目前硅半导体已达到物理极限,若要在硅基功率元件(如Si-MOSFET等)高耐压、耐高温、降低单位面积阻抗等参数作大幅改善,则需要采用宽能隙半导体材料如SiC(碳化硅)或GaN来替代。其中,SiC半导体的宽能隙(band gap)比现有的硅半导体宽3倍以上,可以承受10倍以上的电压,多用于在电动车逆变器(inverter)、车载充电器、太阳能变流器和工业设施中。
美国宇航局(NASA)格伦研究中心的工程师正在为下一代飞机开发新型纤维材料,用来制造更好的飞机发动机和相关系统的零部件。